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第446章 挖坑日月光高通老董请雷董洗脚（第5页）

都是真金白银买的，上千亿的投资，台积电家大业大，也烧不起。

根本舍不得淘汰。

但是制程精度又确实不够用，那咋办？

升级光刻机！

要知道，阿斯麦的duV光刻机，从之前的19oo一路更新到现在的195oi、96oi、197oi，再到未来的2oooi，不是全面从头研的。

而是不断升级改造的！

直到euV光刻机，那才是从头研，全新的体系，全新的技术。

因此，台积电，英特尔，三星的195oi，196oi，都会在多年后，由阿斯麦进行部分元器件升级，从而成为‘198odi’！

同样，星逸半导体的195oi、196oi，也可以升级，成为198odi。

至于解决方案，一个是请阿斯麦出手。

在m帝狗急跳墙之前，这有可能，给钱就行。

但在狗急跳墙之后，这可能性很小很小。

那解决方案只有一个，自食其力。

组建技术团队，哪怕无法研出光刻机，但也要能够做到升级光刻机。

不用多了，把195oi升级到197oi的水平，把196oi升级到198odi的水平，就足够了。

但这难度系数依旧很大，光靠星逸科技很难。

但加上魔都微电子，那就问题不大了。

魔都微电子可是能够独立研duV光刻机的存在，单纯地给阿斯麦光刻机升个级，难度不大。

王逸有了计较，这事得提前准备。

等缓过这阵，就去投资魔都微电子！

不管是为了实现duV光刻机国产化，还是为了在几年后，给195oi196oi升级，都得投资魔都微电子。

还有长春光电所、中维半导体等优质企业，都值得投资。

届时魔都微电子实现duV光刻机国产化。

中微半导体和北方华创实现蚀刻机国产化。

星逸科技实现芯片设计，芯片制造，芯片封测，以及eda软件，光刻胶国产化。

届时国产半导体领域也就全面崛起，彻底打破封锁，彻底立起来了！

虽然这个过程很难，但并不是不可能。

全看努力了。

好在这一次，比起前世提前了足足六年。

差距还不是太大，对手还不是不可战胜。

一切都前途可期。

王逸看向胡老：“阿斯麦那边，197oi光刻机，务必尽快货。我们多出钱都行，务必要197oi！”

胡老表情变得严肃起来，一下子看穿了王逸的想法：

“王董，你是打算未来借助197oi多重曝光技术，实现1o纳米以下工艺？”

“没错，美帝肯定会狗急跳墙，或早或晚的事。咱们只能防患于未然。197oi就是个坎儿，有了足够多的197oi光刻机，我们未来7nm都没有战略危机。”

王逸语重心长道：“但若是没有，那我们一旦被限制，前途堪忧。”

虽然195oi和196oi，都能升级到197oi，甚至198odi。

但这也需要时间。